发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明系揭示一种无接触侦测电流之感测器,其具有:一感测元件,其具有一磁性隧穿接面(MTJ),及侦测电路结构,该感测元件具有一随该磁场变化之电阻,及该侦测电路结构配置成侦测流经该隧穿接面之隧穿电流。该感测元件可与记忆体元件共享一MTJ堆叠。该感测元件亦可与下一代CMOS制程(含MRAM科技)轻易整合,成为更小型,并使用较少电力。提供以下解决方案:如提供一通量集中器以增加该感测器灵敏度,及如形成L形导体元件以利用同一电流产生较高磁场。较大灵敏度能减少后处理的使用,以节省如行动装置等应用之电力。该等应用包括电流感测器、内建式电流感测器,及IDDQ及IDDT测试,甚至用于下一代CMOS制程。
申请公布号 TWI365989 申请公布日期 2012.06.11
申请号 TW093139705 申请日期 2004.12.20
申请人 易利普斯基远控有限责任公司 美国 发明人 强尼司 迪 伟狄;乔斯 迪 杰瑟司 潘妮达 迪 加维资;法兰西斯可司 葛瑞德司 玛莉亚 迪 强格;桥塞夫 安东尼司 修司肯;汉司 马克 巴特 伯非;金 芬 黎
分类号 G01R15/20 主分类号 G01R15/20
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 美国