发明名称 用于等离子处理装置的电场均匀调谐装备
摘要 一种用于等离子处理装置的电场均匀调谐装备,该电场均匀调谐装备包含若干环状结构,从外到内依次为外导电环状层、绝缘环状层、内导电环状层;其中,外导电环状层和内导电层环状层相对的圆环面上分别设置若干突出部和凹进部,且外导电环状层和内导电层环状层可以相对转动,相对旋转时,内导电环状层突出部和外导电环状层突出部之间的距离发生变化,从而射频分布改变。本创作可较为容易地实现射频分布的均匀调谐。
申请公布号 TWM431424 申请公布日期 2012.06.11
申请号 TW100222445 申请日期 2011.11.28
申请人 中微半导体设备(上海)有限公司 中国 发明人 王俊;吴狄;彭帆;黄智林
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 蔡清福 台北市中山区中山北路3段27号13楼
主权项
地址 中国