| 摘要 |
1. Устройство (50) для получения наночастиц в непрерывном режиме, содержащее ! первое устройство (1a) подачи с первым питающим наносом (9), соединенным с источником (7) исходного материала, ! первый реактор (2), содержащий первую нагреваемую реакционную зону (13), ! второй реактор (3), содержащий вторую нагреваемую реакционную зону (15), где все указанные устройства соединены с каналом движения материала последовательно в указанном порядке, ! по меньшей мере один регулятор (18) давления, установленный в указанном канале движения материала, ! смеситель (5), установленный в указанном канале движения материала между первым реактором (2) и вторым реактором (3), ! второе устройство (1b) подачи со вторым питающим насосом (10), соединенным с источником (8) исходного материала, причем второй питающий насос (10) находится в жидкостном соединении со смесителем (5), ! устройство (22) управления, выполненное с возможностью управления установкой значения давления указанным регулятором (18) давления и/или значения температуры указанных нагреваемых реакционных зон (13 и 15), ! отличающееся тем, что после каждой нагреваемой реакционной зоны (13) в канале движения материала установлено соответствующее охлаждающее устройство (14, 16) для снижения размера наночастиц в процессе их получения, причем охлаждающие устройства (14, 16) дополнительно выполнены с возможностью прекращения этого процесса получения наночастиц. ! 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что охлаждающее устройство (14), соединенное с первым реактором (2), установлено в канале движения материала после первой нагреваемой реакционной зоны (13). ! 3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что дополнительно с |
