摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zum Beschichten einer Oberfläche (21) eines Substrats (20), das während des Beschichtungsprozesses in einer Bearbeitungskammer (2) aufgenommen und einem von einer Partikelquelle (4) erzeugten Strom von Beschichtungspartikeln (23) ausgesetzt ist. Zum Transport des Substrats (20) durch die Bearbeitungskammer (2) ist eine Fördervorrichtung (10) vorgesehen. Um Ablagerungen des Beschichtungsmaterials auf empfindlichen Komponenten der Fördervorrichtung (10) zu vermeiden, ist die Fördervorrichtung (10) in einer solchen Weise in der Bearbeitungskammer (2) angeordnet, dass sie durch das zu transportierende Substrat (20) gegenüber dem von der Partikelquelle (4) abgesonderten Partikelstrom von abgeschirmt ist. Auf diese Weise können die Wartungsintervalle verlängert und die Betriebskosten der Vorrichtung (1) gesenkt werden. Ferner um betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Beschichten einer Oberfläche (21) eines Substrats (20) in einer Vorrichtung (1) mit einer Bearbeitungskammer (2) zur Aufnahme des Substrats (20) während des Beschichtungsprozesses, mit einer Partikelquelle (4) zur Erzeugung von Beschichtungspartikeln (23), und mit einer Fördervorrichtung (10) zum Transport des Substrats (20) in der Bearbeitungskammer (2), welche eine Vielzahl von Transportrollen (11a) aufweist, die an einem Satz von in Lagern (11c) drehbar gelagerten, in Vorschubrichtung (13) hintereinander angeordneten und parallel zueinander ausgerichteten Wellen (11b) befestigt sind, wobei die Fördervorrichtung (10) oder zumindest eine der Transportrollen (11a), eine der Wellen (11b) oder eines der Lager (11c) der Fördervorrichtung (10) durch das zu transportierende Substrat (20) oder durch zwei nach einander zu transportierende Substrate (20) gegenüber einem von der Partikelquelle (4) abgesonderten Strom von Beschichtungspartikeln (23) abgeschirmt wird.</p> |