发明名称 具有提高的载体迁移率的源极/漏极应力源及其制造方法
摘要 公开了可以提高载体迁移率的各种源极/漏极应力源及其制造方法。示例性的源极/漏极应力源包括设置在第二材料的衬底上方的第一材料的种子层,第一材料与第二材料不同;设置在种子层上方的弛豫的外延层;以及设置在弛豫的外延层上方的外延层。
申请公布号 CN102487073A 申请公布日期 2012.06.06
申请号 CN201110329739.3 申请日期 2011.10.26
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 林经祥;许俊豪;蔡邦彦
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I 主分类号 H01L29/06(2006.01)I
代理机构 北京德恒律师事务所 11306 代理人 陆鑫;高雪琴
主权项 一种半导体器件,包括:第一材料的衬底;设置在所述衬底上方的栅极堆叠件,所述栅极堆叠件插入到所述衬底的源极区域和漏极区域中;以及形成在所述源极和漏极区域中的衬底中的应变的部件,其中所述应变的部件包括:设置在所述衬底上方的第二材料的种子层,所述第二材料与所述第一材料不同,设置在所述种子层上方的弛豫的外延层,以及设置在所述弛豫的外延层上方的外延层。
地址 中国台湾新竹