| 发明名称 | 真空传输制程设备 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种真空传输制程设备，其包括一真空制程腔、至少一个进件腔、至少一个出件腔以及至少一个传输平台，该传输平台用于承载工件从该进件腔经该真空制程腔移动至该出件腔，该真空制程腔中在该传输平台的两侧分别设有至少一个加工装置，该传输平台为中空支架，位于该传输平台一侧的该加工装置的加工介质能够穿过该中空支架对该传输平台所承载的工件的一个表面进行加工，位于该传输平台另一侧的该加工装置的加工介质能够穿过该中空支架对该传输平台所承载的工件的另一个表面进行加工。本发明的生产效率极高，且设备成本较低。 | ||
| 申请公布号 | CN102486988A | 申请公布日期 | 2012.06.06 |
| 申请号 | CN201010572157.3 | 申请日期 | 2010.12.03 |
| 申请人 | 上海凯世通半导体有限公司 | 发明人 | 陈炯;钱锋 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人 | 薛琦;朱水平 |
| 主权项 | 一种真空传输制程设备，其包括一真空制程腔、至少一个进件腔、至少一个出件腔以及至少一个传输平台，该传输平台用于承载工件从该进件腔经该真空制程腔移动至该出件腔，其特征在于，该真空制程腔中在该传输平台的两侧分别设有至少一个加工装置，该传输平台为中空支架，位于该传输平台一侧的该加工装置的加工介质能够穿过该中空支架对该传输平台所承载的工件的一个表面进行加工，位于该传输平台另一侧的该加工装置的加工介质能够穿过该中空支架对该传输平台所承载的工件的另一个表面进行加工。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区牛顿路200号7号楼1号 | ||