发明名称 |
一种纳米尺度非挥发性阻变存储器单元及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及半导体存储器技术领域,公开了一种利用HSG电子抗蚀剂的纳米尺度非挥发性阻变存储器单元及其制备方法,该存储器主要包括:第一导电电极、由HSQ电子束抗蚀剂经电子束曝光和显影后形成的通孔及第一阻变材料、第二阻变材料、第二金属纳米层、第三阻变材料、第三导电电极。利用HSQ电子束抗蚀剂曝光显影后留下的部分作为通孔,通孔的直径可小至纳米量级,通孔底部未完全显影掉的HSQ电子束抗蚀剂可作为阻变材料的一部分或全部。利用本发明,可获得器件面积小、产率高、性能良好的电阻转变存储器,而且这种半导体存储器易于大规模集成和实用化。 |
申请公布号 |
CN102487123A |
申请公布日期 |
2012.06.06 |
申请号 |
CN201010574384.X |
申请日期 |
2010.12.06 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
龙世兵;刘明;刘琦;吕杭炳;陈宝钦;牛洁斌;王艳花;张康玮 |
分类号 |
H01L45/00(2006.01)I;G11C11/56(2006.01)I |
主分类号 |
H01L45/00(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
周国城 |
主权项 |
一种纳米尺度非挥发性阻变存储器单元,其特征在于,该存储器单元包括:一选通晶体管;以及一阻变存储器,该阻变存储器包括:选通晶体管漏极接触插塞之上的第一导电电极;第一导电电极之上的由HSQ电子束抗蚀剂经电子束曝光和显影后形成的通孔及第一阻变层;通孔及第一阻变层之上的第二阻变层;第二阻变层之上的第二金属纳米层;第二金属纳米层之上的第三阻变层;以及第三阻变层之上的第三导电电极。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |