| 发明名称 | 一种钌金属溅射靶材的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种钌金属溅射靶材制备方法。该发明通过直接热压的方法制备钌金属溅射靶材，热压温度1400℃～1700℃，压力为35MPa，保温保压时间10～60min。通过这种方法得到的钌金属靶材的密度可以达到98％以上，平均晶粒尺寸在20μm以下，氧含量可以达到200ppm以下。 | ||
| 申请公布号 | CN102485378A | 申请公布日期 | 2012.06.06 |
| 申请号 | CN201010581909.2 | 申请日期 | 2010.12.06 |
| 申请人 | 北京有色金属研究总院;有研亿金新材料股份有限公司 | 发明人 | 罗俊锋;丁照崇;何金江;王欣平;江轩 |
| 分类号 | B22F3/14(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | B22F3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人 | 耿小强 |
| 主权项 | 一种钌金属溅射靶材制备方法，其特征在于：通过直接热压的方法制备钌金属溅射靶材，热压温度为1400℃～1700℃，压力为35MPa，保温保压时间为10～60min。 | ||
| 地址 | 100088 北京市西城区新街口外大街2号 | ||