发明名称 一种防止静电放电的输入电阻及制造方法
摘要 一种防止静电放电的输入电阻及制造方法,涉及防静电放电电阻领域,采用自对准多晶硅化合物阻挡层覆盖着的多晶硅层和重掺杂N型有源区层用于防止静电防电的电阻。本发明的电阻结构不仅有触发充电器件模式的静电放电脉冲,也不会由于烧坏结点或融化金属而造成半导体器件的损坏。
申请公布号 CN101499471B 申请公布日期 2012.06.06
申请号 CN200810033257.1 申请日期 2008.01.29
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 刘志纲;俞大立
分类号 H01L27/02(2006.01)I;H01L23/60(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I 主分类号 H01L27/02(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 罗朋
主权项 一种防止静电放电的输入电阻,其特征在于,其包括:‑重掺杂N型有源区和轻掺杂P型阱结构的电阻结构,其包括重掺杂N型有源区和轻掺杂P型阱,其中,所述重掺杂N型有源区位于所述轻掺杂P型阱中,所述重掺杂N型有源区和轻掺杂P型阱形成反偏二极管结构;‑多晶硅层和自对准多晶硅化合物阻挡层结构的电阻结构,其包括多晶硅层和自对准多晶硅化合物阻挡层,其中,所述自对准多晶硅化合物阻挡层位于所述多晶硅层上;其中,所述重掺杂N型有源区和所述多晶硅层通过金属层连接。
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号