发明名称 |
一种防止静电放电的输入电阻及制造方法 |
摘要 |
一种防止静电放电的输入电阻及制造方法,涉及防静电放电电阻领域,采用自对准多晶硅化合物阻挡层覆盖着的多晶硅层和重掺杂N型有源区层用于防止静电防电的电阻。本发明的电阻结构不仅有触发充电器件模式的静电放电脉冲,也不会由于烧坏结点或融化金属而造成半导体器件的损坏。 |
申请公布号 |
CN101499471B |
申请公布日期 |
2012.06.06 |
申请号 |
CN200810033257.1 |
申请日期 |
2008.01.29 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
刘志纲;俞大立 |
分类号 |
H01L27/02(2006.01)I;H01L23/60(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
罗朋 |
主权项 |
一种防止静电放电的输入电阻,其特征在于,其包括:‑重掺杂N型有源区和轻掺杂P型阱结构的电阻结构,其包括重掺杂N型有源区和轻掺杂P型阱,其中,所述重掺杂N型有源区位于所述轻掺杂P型阱中,所述重掺杂N型有源区和轻掺杂P型阱形成反偏二极管结构;‑多晶硅层和自对准多晶硅化合物阻挡层结构的电阻结构,其包括多晶硅层和自对准多晶硅化合物阻挡层,其中,所述自对准多晶硅化合物阻挡层位于所述多晶硅层上;其中,所述重掺杂N型有源区和所述多晶硅层通过金属层连接。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |