发明名称 |
光致抗蚀剂组合物、其涂布方法及抗蚀剂图形的形成方法 |
摘要 |
本发明提供涂布时不形成条斑等的LCD-TFT基板制造用排出喷嘴式涂布法光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂组合物的涂布方法及抗蚀剂图形的形成方法。排出喷嘴式涂布法光致抗蚀剂组合物含有:(A)碱可溶性树脂、(B)感光剂、以及(C)由含以通式(1):CH2=CR1COOCH2CH2C8F17(式中,R1是氢原子或者甲基)表示的氟代烷基单体(m1)和含以通式(2):CH2=CR2COO(C3H6O)nH(式中,R2是氢原子或者甲基,n作为分布的平均值是4~7)表示的聚氧丙烯单体(m2)构成的单体混合物(m)进行聚合而得到的共聚物(P),上述单体混合物(m)中的上述单体(m1)和(m2)的混合比(m1)/(m2)是25/75~40/60(重量比),而且上述共聚物(P)的重均分子量是3000~10000的氟系表面活性剂。 |
申请公布号 |
CN101154040B |
申请公布日期 |
2012.06.06 |
申请号 |
CN200710153550.7 |
申请日期 |
2007.09.21 |
申请人 |
AZ电子材料IP(日本)株式会社;大日本油墨化学工业株式会社 |
发明人 |
池本准;岛仓纯一;高野圣史;松尾二郎 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01)I;G03F7/008(2006.01)I;G03F7/075(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
钟晶 |
主权项 |
用于g线、h线、i线或其混合波长的LCD‑TFT基板制造用排出喷嘴式涂布法光致抗蚀剂组合物,其特征在于,含有(A)碱可溶性树脂,(B)包含萘醌二叠氮基磺酰氯与选自多羟基二苯甲酮类和双((多)羟基苯基)烷烃类的含有羟基的低分子化合物的缩合物的至少一种的感光剂,以及(C)氟系表面活性剂,该氟系表面活性剂是由包含通式(1)表示的氟代烷基单体m1和通式(2)表示的聚氧丙烯单体m2的单体混合物m进行聚合而得到的共聚物P,并且上述单体混合物m中的上述单体m1和m2的混合比m1/m2是25/75~40/60(重量比),而且上述共聚物P的重均分子量是3000~10000;CH2=CR1COOCH2CH2C8F17 (1)式中,R1是氢原子或者甲基,CH2=CR2COO(C3H6O)nH (2)式中,R2是氢原子或者甲基,n作为分布的平均值是4~7。 |
地址 |
日本东京都 |