发明名称 PREPARATION METHOD OF ITOPRIDE AND INTERMEDIATE COMPOUND
摘要 <p>본 발명은 유해 가스 등의 발생없이 이토프라이드를 고수율, 고순도로 제조할 수 있는 이토프라이드의 신규 제조 방법 및 이에 사용되는 중간체 화합물에 관한 것이다. 상기 이토프라이드의 제조 방법은 루이스산의 존재 하에, 하기 화학식 4의 화합물을 소정의 과산(peracid)계 화합물과 반응시켜 이토프라이드를 형성하는 단계를 포함한다: [화학식 4]</p>
申请公布号 KR101153713(B1) 申请公布日期 2012.06.05
申请号 KR20100083590 申请日期 2010.08.27
申请人 发明人
分类号 C07C231/10;C07C233/78;C07C235/50;C07C251/24 主分类号 C07C231/10
代理机构 代理人
主权项
地址