METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING AND CONTROLLING IMAGING IN IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEMS
摘要
<p>웨이퍼(12)가 노광 패턴에 의한 노광을 위해 액침 매질(22)에 잠길 수 있는 액침 리소그래피 시스템(10)을 모니터링하는 방법이 제공된다. 상기 방법은 상기 액침 매질에서의 외부 바디의 존재를 검출함으로써 상기 액침 매질이 상기 웨이퍼를 노광 패턴으로 노광시키도록 허용가능한 상태에 있는지를 판단한다. 또한, 액침 리소그래피 시스템에 대한 모니터링 및 제어 시스템(26)이 개시된다.</p>
