| 摘要 |
<p>본 발명에 따르면, 프로브의 장착에 따르는 전력 손실을 대폭으로 저감할 수 있는 동시에 프로브 장착 오차에 의한 장치마다의 측정치의 편차를 방지하고, 또한 프로브가 실제로 사용되는 때의 장착 상태인 채로 프로브에 의한 측정의 교정이 가능하도록 해서 그 고주파의 전기적 특성을 종래 이상에 고정밀도로 측정한다. 또한, 본 발명은 웨이퍼에 대해서 소정의 플라즈마 처리를 실시하는 처리실내에 배설한 플라즈마 생성용의 서셉터(112)에 정합기(200)를 거쳐서 고주파를 전송하는 급전 막대(210)에 있어서, 급전 막대에 전기적 특성 측정용의 프로브[예컨대 전압 프로브(220V), 전류 프로브(220I)]를 마련해서 프로브와 일체화하고, 일체로 정합기와 처리실 사이에 착탈 가능하게 했다.</p> |
