发明名称 具有增加之载子移动率的场效电晶体
摘要 依据本发明之范例实施例,位于基板(104)上方之场效电晶体(FET)包括位于该基板(104)中之通道(112)。该FET更进一步包括位于该通道(112)上方之第一闸极介电质(116),其中,该第一闸极介电质(116)具有第一热膨胀系数。该FET复包括位于该第一闸极介电质(116)上方之第一闸极电极(114),其中,该第一闸极电极(114)具有第二热膨胀系数,且其中,该第二热膨胀系数系不同于该第一热膨胀系数,以造成该FET中载子移动率之增加。举例来说,该第二热膨胀系数可大于该第一热膨胀系数。该载子移动率之增加可由例如在该通道(112)中产生之拉伸应变所造成。
申请公布号 TWI365510 申请公布日期 2012.06.01
申请号 TW093124153 申请日期 2004.08.12
申请人 格罗方德半导体公司 美国 发明人 相奇;安文勇;丘政锡
分类号 H01L21/8232 主分类号 H01L21/8232
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项
地址 美国