发明名称 静电吸着装置、电浆处理装置及电浆处理方法
摘要 不引起异常放电或破坏绝缘而可安定确实吸着保持绝缘体之基板。;其解决手段为载置绝缘基板(G)之载置台(10)是在基座构件(12)上设置导电体例如由铝所构成之矩形块状之承载器(14),和包围该承载器(14)之周围的绝缘体例如由陶瓷或石英所构成之矩形框体状之聚焦环(16),在承载器(14)之主面(上面)上设置有由各藉由溶射法所形成之下部电介质层(18)、电极层(20)及上部电介质层(22)之三层构造所构成之静电吸着部(24)。下部电介质层(18)及上部电介质层(22)是由体积固有电阻值为1×1014 Ω.cm以上之氧化铝(Al2O3)、氧化锆(ZrO2)的陶瓷所构成。电极层(20)是被电气性连接有直流(DC)电源(34)之输出端子。
申请公布号 TWI365684 申请公布日期 2012.06.01
申请号 TW093123809 申请日期 2004.08.09
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 里吉务
分类号 H05H1/00;H01L21/00 主分类号 H05H1/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本