发明名称 易裂性延伸膜、易裂性积层膜、易裂性袋、及易裂性延伸膜之制造方法
摘要 本发明之易裂性延伸膜包含含有如下者之原料:含有60~85质量份之Ny6、15~40质量份之MXD6之原始原料,与将Ny6及MXD6熔融混炼而成形且MXD6之熔点为233~238℃之热历程品,上述热历程品之含量以上述原料总量为基准,为5~40质量%。
申请公布号 TWI365138 申请公布日期 2012.06.01
申请号 TW095123188 申请日期 2006.06.27
申请人 出光统一科技股份有限公司 日本 发明人 高重真男
分类号 B32B27/34;B65D65/40;B29C55/12 主分类号 B32B27/34
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本