发明名称 |
易裂性延伸膜、易裂性积层膜、易裂性袋、及易裂性延伸膜之制造方法 |
摘要 |
本发明之易裂性延伸膜包含含有如下者之原料:含有60~85质量份之Ny6、15~40质量份之MXD6之原始原料,与将Ny6及MXD6熔融混炼而成形且MXD6之熔点为233~238℃之热历程品,上述热历程品之含量以上述原料总量为基准,为5~40质量%。 |
申请公布号 |
TWI365138 |
申请公布日期 |
2012.06.01 |
申请号 |
TW095123188 |
申请日期 |
2006.06.27 |
申请人 |
出光统一科技股份有限公司 日本 |
发明人 |
高重真男 |
分类号 |
B32B27/34;B65D65/40;B29C55/12 |
主分类号 |
B32B27/34 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |