| 摘要 |
为了提供一种能藉由摇摆法及扫描法双方来照射带电粒子束之带电粒子束照射装置。;带电粒子束照射装置(1)系具备：用来扫描带电粒子束(R)之扫描电磁铁(3a、3b)、利用摇摆法来照射带电粒子束(R)之摇摆照射手段(5)、利用扫描法来照射带电粒子束(R)之扫描照射手段(6)、用来控制摇摆照射手段(5)和扫描照射手段(6)之控制装置(7)。带电粒子束照射装置(1)，藉由控制装置(7)，让摇摆照射手段(5)或扫描照射手段(6)的任一方进行动作，同时使另一方成为退避状态以避免妨碍带电粒子束(R)的照射。藉此，针对摇摆法照射和扫描法照射，能在不致对另一方产生不良影响的状态下实现其中的一方。 |
