| 摘要 |
포토마스크 블랭크용 기판은 연마된 중간품을 형성하도록 기판의 상면상의 주 표면 영역에서의 특정 평탄도가 되도록 기판원판을 연마하고, 그후 중간품을 추가 연마함으로써 제조된다. 이 방법으로 제조된 기판은 웨이퍼 노광시 양호한 평탄도를 나타낸다. 이 기판으로부터 획득된 블랭크로부터 제조된 포토마스크가 진공척으로 웨이퍼 노광 시스템의 마스크 스테이지에 유지될 때, 기판 표면은 최소한의 휨을 겪고, 양호한 위치 및 선폭 정확도를 제공하기 위해 소형 기하학적 특징이 웨이퍼상에 기입되어 질 수 있다. |
