Verfahren zum Behandeln von Wafern und Mikroplättchen

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Behandeln einer Fläche auf einem Wafer oder einem Mikroplättchen, umfassend die Schritte: a) Bereitstellen eines Wafers oder eines Mikroplättchens, b) Platzieren des Wafers oder des Mikroplättchens auf einer Unterlage, c) Bereitstellen von Material für eine umlaufende Begrenzung um die zu reinigende Fläche, d) Anbringen des Materials für die umlaufende Begrenzung so, dass um die zu reinigende Fläche eine Vertiefung entsteht, aus der eine Flüssigkeit nicht austreten kann und e) Befüllen der Vertiefung mit einer Behandlungsflüssigkeit.