Reinigen von Oberflächen in Vakuumapparaturen mittels Laser

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung für ein Reinigen einer vorzugsweise metallischen Oberfläche in einer Vakuumkammer einer Beschichtungsanlage und einer chemischen Gasphasenabscheidungsanlage. Es wird eine Oberfläche in einer Vakuumkammer einer Beschichtungsanlage mit Hilfe eines Lasers gereinigt. Einerseits gelingt es so, die gewünschte Oberfläche zu reinigen, ohne dafür die Vakuumkammer der Beschichtungsanlage öffnen zu müssen. Andererseits ist es so grundsätzlich möglich zu reinigen, ohne die zu reinigende Oberfläche zu verändern.