一种集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备

摘要

本实用新型涉及一种集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备，属于半导体或光伏行业中用于制备薄膜材料和器件的气相沉积设备技术领域。技术方案是包含一个传输室（1）、以星型排布的方式环布于该传输室周围的多个真空反应腔室和一个进出片室（6），各反应室及一个进出片室与传输室之间通过高真空门阀（7）相连。本实用新型的有益效果：将具有不同功能的真空反应腔室和一个进出片室以星型排布的方式环布于一个传输室周围，各反应室及进出片室与传输室之间以高真空门阀相连，用于真空环境下的连续镀膜，保证衬底在真空环境下完成在不同功能腔室间的传送，保证防止各腔室间的交叉污染和保证真空度。

主权项

一种集成化的多腔室星型结构真空镀膜设备，其特征在于包含一个中央传输室（1）、以星型排布的方式环布于该中央传输室周围的多个真空反应腔室和一个进出片室（6），各反应室及一个进出片室与中央传输室之间通过高真空门阀（7）相连。