间歇性蚀刻冷却

摘要

在气相蚀刻的设备和方法中，被蚀刻的样品(S)被置于主腔(107)内，其中空气从该主腔中排出。蚀刻气体在第一时间段内被输入到主腔(107)内。随后，蚀刻气体从主腔(107)内排出，并且冷却/清除气体在第二时间段内被输入到主腔内。之后，该冷却/清除气体从主腔(107)中排出。期望地，重复以下步骤：在第一时间段内将蚀刻气体输入主腔(107)，将蚀刻气体排出主腔，在第二时间段内将冷却/清除气体输入主腔(107)，以及将冷却/清除气体排出主腔，直至样品被蚀刻到期望的程度。

主权项

一种气相蚀刻方法，包括：(a)将要蚀刻的样品放入主腔内；(b)在步骤(a)之后，将所述主腔内的空气从中排出；(c)在排空所述主腔之后，将蚀刻气体输入排空的主腔；(d)在步骤(c)中将蚀刻气体输入排空的主腔之后，将所述蚀刻气体从所述主腔中排出；(e)在步骤(d)中将所述蚀刻气体从所述主腔中排出之后，将冷却和/或清除气体输入所述主腔，从而在不将所述冷却和/或清除气体输入膨胀腔的情况下对所述样品进行冷却；(f)在步骤(e)中将冷却和/或清除气体输入所述主腔之后，将所述冷却和/或清除气体独立地从所述主腔中排出；并且(g)重复步骤(c)到步骤(f)，直至所述样品被蚀刻到期望的程度，其中，所述气相蚀刻方法还包括在每次进行步骤(c)之前将所述蚀刻气体输入所述膨胀腔，并且步骤(c)包括将所述膨胀腔中的所述蚀刻气体输入所述主腔。