发明名称 |
包含基质的材料及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及材料,其包含:基质材料,其包含多个氨基甲酸乙酯和/或脲和/或异氰脲酸酯基团,并且具有大于75%的硬嵌段含量(下文称作基质A);和聚合物材料,其1)不具有能够与异氰酸酯基团来形成氨基甲酸乙酯、脲或者异氰脲酸酯基团的基团,2)在-10°C到+60°C的温度范围内表现出通过差示扫描量热法(DSC)所测量的相变,并且焓ΔHm至少是87kJ/kg,3)与所述的基质A是互穿的,和4)具有大于700的平均分子量,并且包含基于此材料的重量至少50重量%的氧化烯基团,其中至少85%的该氧化烯基团是氧乙烯基团(下文称作聚合物材料B);和其中所述的基质A和所述的聚合物材料B基于重量的相对量是15∶85-75∶25。 |
申请公布号 |
CN102482489A |
申请公布日期 |
2012.05.30 |
申请号 |
CN201080025190.2 |
申请日期 |
2010.05.10 |
申请人 |
亨茨曼国际有限公司 |
发明人 |
G. J.布利斯;H. G. G.弗贝克 |
分类号 |
C08L75/04(2006.01)I;B29C45/46(2006.01)I;C09K5/06(2006.01)I |
主分类号 |
C08L75/04(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
李连涛;林毅斌 |
主权项 |
材料,该材料包含:‑ 基质材料,其包含多个氨基甲酸乙酯和/或脲和/或异氰脲酸酯基团,并且具有大于75%的硬嵌段含量(下文称作基质A);和‑ 聚合物材料,其1)不具有能够与异氰酸酯基团来形成氨基甲酸乙酯、脲或者异氰脲酸酯基团的基团,2)在‑10°C到+60°C的温度范围内表现出通过差示扫描量热法(DSC)所测量的相变,并且焓ΔHm至少是87 kJ/kg,3)与所述的基质A是互穿的,和4)具有大于700的平均分子量,并且包含基于此材料的重量至少50重量%的氧化烯基团,其中至少85%的该氧化烯基团是氧乙烯基团(下文称作聚合物材料B);和其中所述的基质A和所述的聚合物材料B基于重量的相对量是15:85‑75:25。 |
地址 |
美国犹他州 |