| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，包括水，研磨剂，银离子、硫酸根离子、过氧化物以及表面活性剂。该抛光液具有非常高的钨抛光速度，同时显著降低了芯片表面缺陷。 | ||
| 申请公布号 | CN102477258A | 申请公布日期 | 2012.05.30 |
| 申请号 | CN201010564124.4 | 申请日期 | 2010.11.26 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 王晨;何华锋 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C23F3/06(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，其包括：水，研磨剂，银离子、硫酸根离子、过氧化物以及表面活性剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||