| 发明名称 |
镀膜件及其制备方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种镀膜件及该镀膜件的制备方法。该镀膜件包括基体及形成于基体表面的抗指纹层，该基体与该抗指纹层相结合的表面形成有0.05-0.25微米的粗糙度，该抗指纹层为一纳米级聚四氟乙烯层，其表面形成有微米-纳米级的乳突结构。一种镀膜件的制备方法，其包括如下步骤：提供一基体；对该基体的一表面进行粗化处理，使该表面形成0.05-0.25微米的粗糙度；采用等离子辅助沉积镀膜法在该基体被粗化的表面沉积抗指纹层，该抗指纹层为一纳米级聚四氟乙烯层，其表面形成有微米-纳米级的乳突结构。 |
| 申请公布号 |
CN102477534A |
申请公布日期 |
2012.05.30 |
| 申请号 |
CN201010563904.7 |
申请日期 |
2010.11.29 |
| 申请人 |
鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
发明人 |
张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;彭立全 |
| 分类号 |
C23C14/12(2006.01)I;C23C14/46(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/12(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
一种镀膜件，其包括基体及形成于基体表面的抗指纹层，其特征在于：该基体与该抗指纹层相结合的表面形成有0.05‑0.25微米的粗糙度，该抗指纹层为一纳米级聚四氟乙烯层，其表面形成有微米‑纳米级的乳突结构。 |
| 地址 |
518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 |
