| 发明名称 | 一种新型等离子体增强化学气相沉积排气孔装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种新型等离子体增强化学气相沉积排气孔装置，属于等离子体镀膜领域，包括底部带有进气孔的排气帽，排气帽的壁体上设置有数个通孔。本实用新型能有效减少镀膜过程中排气孔堵塞问题，使排气孔不易堵塞，不仅有利于设备镀膜的问题，同时有利于减少设备维护时间，且设计简单，便于安装与更换。 | ||
| 申请公布号 | CN202246854U | 申请公布日期 | 2012.05.30 |
| 申请号 | CN201120291549.2 | 申请日期 | 2011.08.12 |
| 申请人 | 浙江向日葵光能科技股份有限公司 | 发明人 | 林坚;金若鹏 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 绍兴市越兴专利事务所 33220 | 代理人 | 张谦 |
| 主权项 | 一种新型等离子体增强化学气相沉积排气孔装置，其特征在于：包括底部带有进气孔的排气帽，排气帽的壁体上设置有数个通孔。 | ||
| 地址 | 312071 浙江省绍兴市袍江工业区三江路 | ||