| 摘要 |
Vorrichtung zum Verarbeiten von zwei oder mehreren Substraten (3) in einem Batchverfahren, indem minalternierenden Oberflächenreaktionen mindestens eines ersten und eines zweiten Startmaterials unterworfen wird, wobei die Vorrichtung aufweist: – eine Vakuumkammer (8), die angeordnet ist, im Wesentlichen von der Umgebungsatmosphäre isoliert zu sein, wobei die Substrate (3) während der Verarbeitung in der Vakuumkammer (8) angeordnet werden; – mindestens eine erste Vakuumvorrichtung (9), die operativ an die Vakuumkammer (8) angeschlossen ist, um innerhalb der Vakuumkammer (8) ein Vakuum bereitzustellen; – einen Substratträger (26, 28, 29; 32, 34) zum Halten eines Substratbatches, der zwei oder mehrere Substrate (3) innerhalb der Vakuumkammer (8) während der Verarbeitung aufweist; und – eine Ladekammer (6) in Verbindung mit der Vakuumkammer (8), wobei die Ladekammer (6) im Wesentlichen von der Umgebungsatmosphäre isoliert ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung ferner aufweist: – eine Ladevorrichtung...
|
