发明名称 一种(In,Mn)As纳米线及其制备方法
摘要 本发明公开了一种(In,Mn)As纳米线及其制备方法,纳米线沿<img file="dsa00000365432500011.GIF" wi="228" he="58" />晶向排列,其外延生长于GaAs(001)单晶衬底上,横躺与GaAs(001)单晶表面。In<sub>1-x</sub>Mn<sub>x</sub>As(0.3≤x≤0.5)为外延生长且横躺于GaAs(001)单晶表面的纳米线,保持GaAs(001)单晶的闪锌矿结构,自发沿<img file="dsa00000365432500012.GIF" wi="223" he="57" />晶向排列,因而具有沿着<img file="dsa00000365432500013.GIF" wi="223" he="58" />方向的磁各向异性;所发明的(In,Mn)As纳米线制备方法,利用分子束外延技术与设备,以GaAs(001)单晶为衬底,提高Mn在In、Mn元素中的原子百分含量至30-50%,并采用间隙式生长方式,得到了外延且横躺于GaAs(001)单晶表面、具有单轴各向异性的(In,Mn)As纳米线。
申请公布号 CN102477582A 申请公布日期 2012.05.30
申请号 CN201010565058.2 申请日期 2010.11.30
申请人 无锡南理工科技发展有限公司 发明人 徐锋;陈光;杜宇雷;李永胜
分类号 C30B29/10(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I;C30B29/62(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I 主分类号 C30B29/10(2006.01)I
代理机构 南京理工大学专利中心 32203 代理人 唐代盛
主权项 1.一种(In,Mn)As纳米线,其特征在于纳米线沿<img file="FSA00000365432700011.GIF" wi="228" he="57" />晶向排列,其外延生长于GaAs(001)单晶衬底上,横躺与GaAs(001)单晶表面。
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