发明名称 壳体的制作方法及由该方法制得的壳体
摘要 本发明提供一种壳体的制作方法,提供基体,采用磁控溅射方法在基体的表面形成色彩层,之后,在金属靶材前端设置一移动的挡板,开启靶材电源,该靶材为钛靶、铬靶或锆靶中的任一靶材,调节该挡板至靶材正前方,沉积一定时间,使靶材原子溅射到该挡板上,并当溅射到靶材原子数量和溅射速度都稳定时,移开挡板,使靶材原子溅射到基体上,继续溅射一段时间后,关闭靶材电源,使图案层于色彩层表面的沉积停留于形核阶段,以在该色彩层上形成图案层。由上述方法所制得的壳体,该壳体包括一基体、一色彩层、一图案层,所述色彩层形成于基体的表面,所述图案层形成于色彩层的表面,所述图案层为Ti、Cr或Zr膜层。
申请公布号 CN102477527A 申请公布日期 2012.05.30
申请号 CN201010555189.2 申请日期 2010.11.23
申请人 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 发明人 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;张成
分类号 C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/06(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种壳体的制作方法,其包括如下步骤:提供基体;采用磁控溅射方法在基体的表面形成色彩层;在该色彩层上以磁控溅射方法形成图案层,形成所述图案层的主要步骤参数为:在金属靶材前端设置一移动的挡板,该靶材为钛靶、铬靶或锆靶中的任一靶材;开启靶材电源,加热基体至500~800℃,调节该挡板至靶材正前方,沉积1~3分钟,使靶材原子溅射到该挡板上;待溅射的靶材原子数量和溅射速度稳定后,移开挡板,靶材原子溅射至基体的色彩层上约1~5分钟后关闭靶材电源,使靶材原子于色彩层表面的沉积停留于形核阶段以形成所述图案层。
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