控制反应性高功率脉冲磁控管溅射工艺的方法及其装置

摘要

本发明涉及反应性高功率脉冲溅射工艺的控制。提供了一种用于控制所述工艺的方法，在所述方法中测量受控参数并且基于所测量的受控参数来改变可调节参数，从而将受控参数调节至预定的设定值，其特征在于，通过放电的脉冲频率变化来改变作为可调节参数的放电功率。

主权项

一种用于控制反应性高功率脉冲溅射工艺的方法，在所述方法中测量受控参数并且基于所测量的受控参数来改变可调节参数，从而将受控参数调节到预定的设定值，所述方法的特征在于，在高功率脉冲溅射期间，改变作为可调节参数的放电功率，以通过在保持单个放电脉冲形式的条件下改变放电的脉冲频率以及通过选择预定的设定值、使得反应性高功率脉冲溅射工艺在不稳定的过渡区域中稳定化来使放电稳定化。