| 主权项 |
一种等离子处理装置，用于对在处理室中容纳的要处理的对象执行等离子处理，包括：真空室，其形成处理室；电极部分，其被布置在所述处理室中；真空排气部分，用于通过真空从所述处理室排出气体；供气部分，用于向所述处理室中提供用于产生等离子的气体；高频电源部分，用于当在所述电极部分上施加高频电压时在所述处理室中产生等离子放电；匹配装置，用于将用于产生等离子放电的等离子放电电路的阻抗与所述高频电源部分的阻抗匹配；以及，等离子放电状态监控单元，用于监控所述处理室中的等离子放电状态，所述等离子放电状态监控单元包括：放电检测传感器，其具有板状电介质构件，该板状电介质构件附着到所述真空室以便该板状电介质构件的一面可以与在所述处理室中产生的等离子放电相对，所述放电检测传感器还具有在所述板状电介质构件的另一面上布置的探针电极；第一波形检测部分，用于接收根据等离子放电的改变而在所述探针电极中感生的电势上的改变，并且用于检测根据异常放电产生的特定图案的电势改变波形；以及，第二波形检测部分，用于接收在电势上的改变，并且用于检测由泄漏放电引起的特定图案的电势改变波形，以及第一计数器，用于计数由所述第一波形检测部分进行的检测电势改变波形的次数，并保存计数值；放电状态判断部分，用于根据所述第一计数器的计数值来判断等离子放电的状态；第二计数器，用于计数由所述第二波形检测部分进行的检测电势改变波形的次数，并保存计数值；以及维护判断部分，用于根据第二计数器的计数值来判断是否需要所述真空室的维护。 |
