| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明揭示了一种用于浅槽隔离的化学机械抛光液。该抛光液至少含有一种硅基磨料、一种阴离子表面活性剂和一种pH调节剂，具有较高的二氧化硅去除速率和较低的氮化硅的去除速率，抛光后的表面平坦光洁，稳定性好，适用于浅槽隔离的化学机械平坦化。 | ||
| 申请公布号 | CN102477260A | 申请公布日期 | 2012.05.30 |
| 申请号 | CN201010564182.7 | 申请日期 | 2010.11.26 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 宋伟红;姚颖 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，包括：一种硅基磨料，一种阴离子表面活性剂和一种pH调节剂。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||