| 发明名称 | 多丝导体及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种多丝导体(1)，所述多丝导体设计为带有带状基片(2)和至少一个超导层(3)，其中超导层(3)分为若干丝(20、20’)。带状基片(2)具有平行于其纵向延伸的第一方向，且至少一个丝(20、20’)具有平行于其纵向延伸的第二方向。第一方向和第二方向形成了不为零的角度。多丝导体(1)尤其可设计为使得丝(20、20’)形成在导体的正面(9)和背面(10)上且这样地相互电连接，从而产生交错的导体。本发明进一步涉及此多丝导体(1)的制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102484198A | 申请公布日期 | 2012.05.30 |
| 申请号 | CN201080037916.4 | 申请日期 | 2010.08.24 |
| 申请人 | 西门子公司 | 发明人 | G.里斯;H-W.纽米勒 |
| 分类号 | H01L39/14(2006.01)I;H01L39/24(2006.01)I | 主分类号 | H01L39/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 任宇 |
| 主权项 | 一种多丝导体(1)，所述多丝导体具有带状基片(2)和至少一个超导层(3)，其中至少一个超导层(3)构造在带状基片(2)的至少一个表面上且分为若干丝(20、20’)，且带状基片(2)平行于该带状基片的纵向延伸具有第一方向(21)而至少一个丝(20、20’)具有平行于该丝的纵向延伸具有第二方向(22)，其特征在于，带状基片(2)的第一方向(21)与至少一个丝(20、20’)的第二方向(22)形成大于零的角度。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||