金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置

摘要

本发明涉及用于金属薄板带在真空条件下表面物理气相沉积的领域。一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其主要特点在于设置的真空镀膜室包括有1-5个A低真空室(20a)，1-3离子处理室(30)，1-5个B低真空室(40)，2-9个高真空室(50)，1-8个镀膜室(60)；1-5个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；各真空室与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)。这种装置的优点在于：可在金属薄板带上镀多层膜、反应膜，膜层厚度可独立进行控制，膜层均匀致密，附着力强，工艺重复性好、生产效率高适合工业化生产。

主权项

一种金属薄板带连续进行表面真空镀膜装置，包括开卷机组(10)，其特征在于设置的真空镀膜室包括有1‑5个A低真空室(20a)，1‑3个离子处理室(30)，1‑5个B低真空室(40)，2‑9个高真空室(50)，1‑8个镀膜室(60)，1‑5个A低真空室(20b)，室与室之间有法兰密封连接，并设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；各真空室设置与真空机组(90)相连；在真空镀膜室外还设有收卷机组(80)，连续镀膜的控制系统(100)；所述的A低真空室(20a、20b)包括有室体(20‑1)，其内设有隔板(20‑1‑1)将室体(20‑1)分隔成2‑6个真空室；隔板(20‑1‑1)上设有金属薄板带(1)通过的窗口(2)；在室体(20‑1)的入口处或出口处或室体(20‑1)中部隔板的窗口(2)处设有密封输送辊装置(20‑2)，动力驱动机构(20‑3)设于密封输送辊装置(20‑2)上；室体(20‑1)的上部设有上盖(20‑4)，其间设有上盖密封装置(20‑6)，下部设有机架(20‑5)；室体连接处设有密封装置(20‑7)；室体(20‑1)内与滑阀泵机组(90‑1、90‑2)、罗茨泵(90‑3)相连通；A低真空室(20a、20b)的真空度为300Pa‑2000Pa；所述的密封输送辊装置(20‑2)包括相互平行的两个橡胶辊(20‑2‑3)支撑于两端的轴承座(20‑2‑5)上，传动齿轮(20‑2‑1)分别设于两个橡胶辊(20‑2‑3)的两端，在橡胶辊(20‑2‑3)轴的一端连接有动力驱动机构(20‑3)；在橡胶辊(20‑2‑3)轴的两端设有弹簧(20‑2‑2)，密封板(20‑2‑4)设于橡胶辊(20‑2‑3)上；在金属薄板带(1)通过的窗口(2)的两侧设有通过密封垫(20‑2‑6)与室体连接的联结座(20‑2‑7)，在联结座(20‑2‑7)上设有塑料板(20‑2‑9)，塑料板(20‑2‑9)上设有弹簧片(20‑2‑8)，弹簧片(20‑2‑8)将塑料板(20‑2‑9)压紧在两个橡胶辊(20‑2‑3)上。