感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷电路板的制造方法

摘要

本发明提供一种顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成的感光性元件，所述感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及最大吸收波长为370～420nm的化合物的感光性树脂组合物形成，所述保护膜是以聚丙烯为主要成分。

主权项

1.一种感光性元件，其特征在于，顺次层叠支持体、感光层、保护膜而成，所述感光层由含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂以及选自由下述通式(1)、(2)和(3)所示化合物组成的组中的至少一种的增感剂的感光性树脂组合物形成，相对于所述粘合剂聚合物和所述光聚合性化合物的总量100质量份，所述粘合剂聚合物的配合量为40～80质量份，所述光聚合性化合物的配合量为20～60质量份，所述光聚合引发剂的配合量为0.5～20质量份，所述增感剂的配合量为0.01～5质量份，所述保护膜以聚丙烯为主要成分，所述保护膜中的直径在80μm以上的鱼眼的存在密度为5个/m²以下，所述保护膜的厚度为5～50μm，该感光性元件用于曝光于在390nm～440nm的波长范围内具有峰的光而形成抗蚀图案，式(1)中，R各自独立地表示碳原子数4～12的烷基；a、b和c各自独立地表示0～2的整数，并且a、b和c的总和为1～6；式(2)中，R¹和R²各自独立地表示甲基、乙基、丙基、丁基、戊基或己基；R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹和R¹⁰各自独立地表示氢原子、甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、乙氧基羰基、羟基乙氧基羰基或苯氧基；式(3)表示的化合物表示选自7-氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-甲基香豆素、7-二甲氨基-4-三氟甲基香豆素、7-甲氨基-4-甲基香豆素、7-二乙氨基-4-甲基香豆素、7-乙氨基-4-甲基香豆素、4，6-二甲基-7-乙氨基香豆素、4，6-二甲基-7-二乙氨基香豆素、4，6-二甲基-7-二甲氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二乙氨基香豆素、4，6-二乙基-7-二甲氨基香豆素、7-二甲氨基环五[c]香豆素、7-氨基环五[c]香豆素、7-二乙氨基环五[c]香豆素、2，3，6，7，10，11-六酐-1H，5H-环五[3，4][1]苯并吡喃[6，7，8-ij]喹嗪12(9H)-酮、7-二乙氨基-5’，7’-二甲氧基-3，3’-羰基双香豆素、3，3’-羰基双[7-(二乙氨基)香豆素]和7-二乙氨基-3-噻吩并氧基香豆素中的至少一种化合物。