发明名称 |
形成光学平台的方法 |
摘要 |
一种形成光学平台的方法,包括:提供衬底;利用干法刻蚀图形化所述衬底,形成凹槽;第一次氧化所述图形化的衬底,在图形化的衬底的表面以及凹槽的表面形成氧化膜;图形化所述凹槽底部的衬底和氧化膜,形成器件台、器件台两侧的通孔;第二次氧化所述衬底,在所述通孔的侧壁形成氧化膜;沉积金属,覆盖所述衬底上表面、下表面、凹槽底部和侧壁以及通孔侧壁的氧化膜。本发明利用干法刻蚀在衬底中形成凹槽,可以通过调整干法刻蚀中气体的压强,调整形成的凹槽的侧壁与底部的夹角,从而可以选择合适的压强,选择合适的凹槽的侧壁与底部的夹角,在多个凹槽内设置LED时,优化LED的二次光学效率,也就是减少LED的光能量的损失,节省能源。 |
申请公布号 |
CN102479889A |
申请公布日期 |
2012.05.30 |
申请号 |
CN201010567628.1 |
申请日期 |
2010.11.30 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
林益世;张海洋 |
分类号 |
H01L33/00(2010.01)I;H01L33/58(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2010.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
骆苏华 |
主权项 |
一种形成光学平台的方法,其特征在于,包括:提供衬底;利用干法刻蚀图形化所述衬底,形成凹槽;第一次氧化所述图形化的衬底,在图形化的衬底的表面以及凹槽的表面形成氧化膜;图形化所述凹槽底部的衬底和氧化膜,形成器件台、器件台两侧的通孔;第二次氧化所述衬底,在所述通孔的侧壁形成氧化膜;沉积金属,覆盖所述衬底上表面、下表面、凹槽底部和侧壁以及通孔侧壁的氧化膜。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |