发明名称 形成光学平台的方法
摘要 一种形成光学平台的方法,包括:提供衬底;利用干法刻蚀图形化所述衬底,形成凹槽;第一次氧化所述图形化的衬底,在图形化的衬底的表面以及凹槽的表面形成氧化膜;图形化所述凹槽底部的衬底和氧化膜,形成器件台、器件台两侧的通孔;第二次氧化所述衬底,在所述通孔的侧壁形成氧化膜;沉积金属,覆盖所述衬底上表面、下表面、凹槽底部和侧壁以及通孔侧壁的氧化膜。本发明利用干法刻蚀在衬底中形成凹槽,可以通过调整干法刻蚀中气体的压强,调整形成的凹槽的侧壁与底部的夹角,从而可以选择合适的压强,选择合适的凹槽的侧壁与底部的夹角,在多个凹槽内设置LED时,优化LED的二次光学效率,也就是减少LED的光能量的损失,节省能源。
申请公布号 CN102479889A 申请公布日期 2012.05.30
申请号 CN201010567628.1 申请日期 2010.11.30
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 林益世;张海洋
分类号 H01L33/00(2010.01)I;H01L33/58(2010.01)I 主分类号 H01L33/00(2010.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 骆苏华
主权项 一种形成光学平台的方法,其特征在于,包括:提供衬底;利用干法刻蚀图形化所述衬底,形成凹槽;第一次氧化所述图形化的衬底,在图形化的衬底的表面以及凹槽的表面形成氧化膜;图形化所述凹槽底部的衬底和氧化膜,形成器件台、器件台两侧的通孔;第二次氧化所述衬底,在所述通孔的侧壁形成氧化膜;沉积金属,覆盖所述衬底上表面、下表面、凹槽底部和侧壁以及通孔侧壁的氧化膜。
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