具有改善的气流分布的热反应器

摘要

本发明的实施例提供用于改善热处理期间的气体分布的设备及方法。本发明的一个实施例提供一种用于处理基板的设备，该设备包括：腔室主体，该腔室主体界定一处理容积；基板支撑件，该基板支撑件设置于该处理容积中，其中该基板支撑件配置以支撑并旋转该基板；气体入口组件，该气体入口组件耦接至该腔室主体的入口，并配置以提供第一气流至该处理容积；以及排气组件，该排气组件耦接至该腔室主体的出口，其中该气体入口组件及该排气组件设置在该腔室主体的相对侧，且该排气组件界定配置以延伸该处理容积的排气容积。

主权项

一种用于处理基板的设备，包括：腔室主体，所述腔室主体界定处理容积；基板支撑件，所述基板支撑件设置于所述处理容积中，其中所述基板支撑件配置以支撑并旋转所述基板；气体入口组件，所述气体入口组件耦接至所述腔室主体的一入口，并配置以提供第一气流至所述处理容积；排气组件，所述排气组件耦接至所述腔室主体的一出口，其中所述气体入口组件及所述排气组件设置在所述腔室主体的相对侧，且所述排气组件界定配置以延伸所述处理容积的排气容积；以及侧边注射组件，所述侧边注射组件耦接至所述腔室主体，其中所述侧边注射组件配置以供应第二气流至所述处理容积。