发明名称 |
半导体装置、有源矩阵基板以及显示装置 |
摘要 |
提供能与周围温度无关地实现漏电流的降低的半导体装置、使用该半导体装置的有源矩阵基板以及显示装置。在具有串联连接的多个薄膜晶体管的开关部(半导体装置)(18)中,具备:多个栅极电极(g1~g4);沟道区域(30)和低浓度杂质区域(29),其包含在设于多个栅极电极(g1~g4)的下方的硅层(半导体层)(SL)中,并且分别设于多个晶体管;以及底栅电极(21),其设于硅层(SL)的下方。对底栅电极(21)提供与各栅极电极(g1~g4)同相位的电压。 |
申请公布号 |
CN102484136A |
申请公布日期 |
2012.05.30 |
申请号 |
CN201080037468.8 |
申请日期 |
2010.08.26 |
申请人 |
夏普株式会社 |
发明人 |
北角英人 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;G09F9/30(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/8234(2006.01)I;H01L27/088(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/49(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
北京市隆安律师事务所 11323 |
代理人 |
权鲜枝 |
主权项 |
一种半导体装置,具备:串联连接的多个薄膜晶体管;栅极电极,其分别设于上述多个薄膜晶体管;半导体层,其设于多个上述栅极电极的下方;沟道区域,其形成于该半导体层,分别设于上述多个薄膜晶体管;低浓度杂质区域,其形成于上述半导体层,与上述沟道区域相邻;底栅电极,其设于上述沟道区域的下方;以及遮光膜,其对上述沟道区域和上述低浓度杂质区域进行遮光,以对上述栅极电极施加电压的状态对上述底栅电极施加电压。 |
地址 |
日本大阪府 |