曝光装置

摘要

本发明提供一种曝光装置，利用拍摄装置3在同一视场内分别捕捉并拍摄形成在滤色基板6上的基板侧对准标记和形成在光掩膜7上的掩膜侧对准标记，基于该拍摄到的基板侧和掩膜侧对准标记的各图像，相对移动载物台1和掩膜载物台2，对滤色基板6与光掩膜7进行对位后进行曝光，并且具有光学距离修正装置4，该光学距离修正装置4使拍摄装置3的线阵CCD22与滤色基板6之间的光学距离和拍摄装置3的线阵CCD22与光掩膜7之间的光学距离大致一致。由此，缩短基板和光掩膜的对位的处理时间。

主权项

一种曝光装置，其特征在于，具有：载物台，其在上表面载置并保持涂覆有感光性树脂的基板，掩膜载物台，其设置在上述载物台的上方，用于保持光掩膜，以使光掩膜靠近上述基板并与上述基板对置，该光掩膜形成有用于观察在上述基板上形成的基板侧对准标记的观察孔和掩膜侧对准标记，拍摄装置，其设有线阵CCD和聚光透镜，该线阵CCD具有多个用于接受光的受光元件，这些受光元件排列成一条直线状，该聚光透镜使通过上述观察孔进行观察的在上述基板上形成的上述基板侧对准标记和在上述光掩膜上形成的上述掩膜侧对准标记，分别同时在上述线阵CCD上的不同位置成像，并且，该拍摄装置分别将上述基板侧对准标记和上述掩膜侧对准标记捕捉到同一视场内，并进行拍摄，由上述拍摄装置拍摄上述基板侧及掩膜侧对准标记，基于分别检测出上述基板侧及掩膜侧对准标记的上述线阵CCD的各受光元件的单元号，来计算上述基板侧对准标记和上述掩膜侧对准标记之间的水平距离，使上述载物台和掩膜载物台相对移动，从而使得该水平距离变为规定距离，以此对上述基板和光掩膜进行对位，然后进行曝光，在上述线阵CCD和上述聚光透镜之间，并在通过上述光掩膜的观察孔而连结上述线阵CCD和上述基板的光路上具有由透明部件构成的光学距离修正装置，上述透明部件具有规定的折射率以及规定的厚度，该光学距离修正装置使上述线阵CCD与上述基板之间的光学距离和上述线阵CCD与上述光掩膜之间的光学距离大致一致。