发明名称 |
光罩清洗方法 |
摘要 |
本发明公开了一种光罩清洗方法,当拆掉光罩上的光罩保护膜后,该方法包括:在光罩上的光罩保护膜粘贴区域均匀喷洒异丙醇、丙酮、酒精或庚烷,并对喷洒有异丙醇、丙酮、酒精或庚烷的区域进行单方向擦拭,当目测光罩上不存在残胶时,停止擦拭;依次利用臭氧水、去离子水、SC-1溶液和去离子水对光罩进行清洗;对清洗后的光罩进行干燥处理。应用本发明所述的方案,能够较好地去除光罩上的残胶。 |
申请公布号 |
CN102033416B |
申请公布日期 |
2012.05.30 |
申请号 |
CN200910196549.1 |
申请日期 |
2009.09.27 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
李德建 |
分类号 |
G03F1/82(2012.01)I;B08B7/04(2006.01)I;F26B5/08(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/82(2012.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
谢安昆;宋志强 |
主权项 |
一种光罩清洗方法,当拆掉光罩上的光罩保护膜后,该方法包括:在光罩上的光罩保护膜粘贴区域均匀喷洒异丙醇、丙酮、酒精或庚烷,并对喷洒有异丙醇、丙酮、酒精或庚烷的区域进行单方向擦拭,当目测光罩上不存在残胶时,停止擦拭;依次利用臭氧水、去离子水、SC‑1溶液和去离子水对光罩进行清洗;对清洗后的光罩进行干燥处理。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |