基板处理系统及基板处理方法

摘要

本发明提供一种能够抑制曝光的感光性树脂材料的发泡现象的基板处理系统及基板处理方法。基板处理系统(1)具有：洗净装置(21)、抗蚀剂涂敷装置(22)、周边曝光装置(23)、基板传送机构(30)及系统控制器(10)。系统控制器(10)具有：时间监视部(10B)，监视从由抗蚀剂涂敷装置(22)形成了抗蚀剂膜时起到由周边曝光装置(23)开始曝光工序为止的基板(W)的等待时间；以及工艺控制部(10A)，当等待时间超过了限制时间时，使基板传送机构(30)将基板(W)传送到洗净装置(21)。工艺控制部(10A)将由洗净装置(21)去除了抗蚀剂膜后的基板(W)传送到抗蚀剂涂敷装置(22)。

主权项

一种基板处理系统，其特征在于，具有：洗净装置，对基板的表面实施洗净处理；抗蚀剂涂敷装置，在所述基板的表面涂敷感光性树脂材料，形成抗蚀剂膜；周边曝光装置，对形成在所述基板周边部上的该抗蚀剂膜进行曝光；基板传送机构，将所述基板从所述抗蚀剂涂敷装置传送到所述周边曝光装置；以及系统控制器，控制所述洗净装置、所述抗蚀剂涂敷装置、所述周边曝光装置与所述基板传送机构的各自的动作，所述系统控制器具有：等待时间监视部，监视从形成所述抗蚀剂膜时起到由所述周边曝光装置开始对所述抗蚀剂膜的曝光工序为止的该基板的等待时间；以及工艺控制部，当所述等待时间超过了限制时间时，使所述基板传送机构将该基板传送到所述洗净装置，并将利用所述洗净装置去除了所述抗蚀剂膜后的该基板从所述洗净装置传送到所述抗蚀剂涂敷装置。