发明名称 具有凹坑层的发光二极管装置及其制造方法
摘要 本发明公开了发光二极管装置及其制造方法。在一实施例中,发光二极管装置包含一具有第一表面与第一厚度的N型层,以及一位于第一表面的凹坑层。凹坑层具有第二表面以及介于以及<img file="dsa00000601345000011.GIF" wi="141" he="56" />至<img file="dsa00000601345000012.GIF" wi="156" he="48" />第二厚度。此外,一具有介于<img file="dsa00000601345000013.GIF" wi="106" he="47" />至<img file="dsa00000601345000014.GIF" wi="98" he="48" />的第三厚度的活性层位于第二表面,并且一P型层位于活性层上。N型层在第一表面具有一缺陷密度,范围从1×10<sup>9</sup>cm<sup>-2</sup>至1×10<sup>10</sup>cm<sup>-2</sup>。凹坑层具有许多凹坑。
申请公布号 CN102479897A 申请公布日期 2012.05.30
申请号 CN201110332823.0 申请日期 2011.10.27
申请人 绿种子能源科技股份有限公司 发明人 刘恒
分类号 H01L33/20(2010.01)I;H01L33/08(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/20(2010.01)I
代理机构 北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 代理人 文琦;陈波
主权项 1.一种发光二极管装置,包含:一N型层,该N型层具有一第一表面与一第一厚度;一凹坑层,该凹坑层位于所述第一表面,且具有一第二表面以及一第二厚度,该第二厚度的范围从<img file="FSA00000601345200011.GIF" wi="143" he="48" />至<img file="FSA00000601345200012.GIF" wi="174" he="52" />一活性层,该活性层位于所述第二表面上,且具有一介于<img file="FSA00000601345200013.GIF" wi="107" he="48" />至<img file="FSA00000601345200014.GIF" wi="99" he="47" />的第三厚度;以及一P型层,该P型层位于所述活性层上;其中,所述N型层在所述第一表面具有一缺陷密度,其范围从1×10<sup>9</sup>cm<sup>-2</sup>至1×10<sup>10</sup>cm<sup>-2</sup>,所述凹坑层具有多个凹坑,且在所述第二表面上每一个凹坑的凹坑尺寸介于<img file="FSA00000601345200015.GIF" wi="142" he="48" />至<img file="FSA00000601345200016.GIF" wi="156" he="48" />之间。
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