发明名称 |
无光饰面聚酰亚胺膜及其相关方法 |
摘要 |
本发明涉及基膜,所述基膜具有8至152微米的厚度、2至35的60度光泽度值、大于或等于2的光密度以及大于1400V/mil的介电强度。所述基膜包含化学转化的(部分芳族的或全芳族的)聚酰亚胺,其量为所述基膜的71至96重量%。所述基膜还包含颜料和消光剂。所述消光剂以所述基膜的1.6至10重量%的量存在,并且具有1.3至10微米的中值粒度和2至4.5g/cc的密度。所述颜料以所述基膜的2至9重量%的量存在。本发明还涉及表护层薄膜,其包括与粘合剂层结合的所述基膜。 |
申请公布号 |
CN102482418A |
申请公布日期 |
2012.05.30 |
申请号 |
CN201080038585.6 |
申请日期 |
2010.08.03 |
申请人 |
E.I.内穆尔杜邦公司 |
发明人 |
T·E·卡内;J·M·巴尔托灵;M·L·邓巴 |
分类号 |
C08G73/10(2006.01)I;C08J5/18(2006.01)I |
主分类号 |
C08G73/10(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
朱黎明 |
主权项 |
基膜,所述基膜包含:A.化学转化的聚酰亚胺,其量为所述基膜的71至96重量%,所述化学转化的聚酰亚胺衍生自:a.基于所述聚酰亚胺的总二酐含量至少50摩尔%的芳族二酐,和b.基于所述聚酰亚胺的总二胺含量至少50摩尔%的芳族二胺;B.低电导率炭黑,其以所述基膜的2至9重量%的量存在;以及C.消光剂,所述消光剂:a.以所述基膜的1.6至10重量%的量存在,b.具有1.3至10微米的中值粒度,并且c.具有2至4.5g/cc的密度。 |
地址 |
美国特拉华州 |