发明名称 aditivos para laminação pobres em fósforo com pequena emissão, adesão inicial e estabilidade à hidrólise aperfeiçoadas
摘要 <p>ADITIVOS PARA LAMINAçãO POBRES EM FóSFORO COM PEQUENA EMISSãO, ADESãO INICIAL E ESTABILIDADE à HIDRóLISE APERFEIçOADAS. A presente invenção refere-se a uma composição, que é adequada para a preparação de sistemas de poliuretano adequados para a colagem à quente, caracterizada pelo fato de que ela apresenta de 0,1 até 20% em massa de uma mistura de aditivos, a qual apresenta pelo menos um composto orgânico de fósforo, isoladamente ou em combinação com um agente reticulante ou extensor.</p>
申请公布号 BRPI1003091(A2) 申请公布日期 2012.05.29
申请号 BR2010PI03091 申请日期 2010.08.30
申请人 EVONIK GOLDSCHMIDT GMBH 发明人 SARAH SCHMITZ;CHRISTIAN EILBRACHT
分类号 C08K5/51;B32B27/40;C08G18/48 主分类号 C08K5/51
代理机构 代理人
主权项
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