发明名称 多元复合透明导电薄膜制备方法及其制备的薄膜和应用
摘要 本发明涉及半导体材料制备领域,提供一种多元复合透明导电薄膜的制备方法及其制备的薄膜和应用,其方法包括如下步骤:AZO靶材的制备,将Al2O3和ZnO粉体混合,烧结作为靶材,所述Al2O3与ZnO的摩尔量比为1/120~1/35;ATO靶材的制备,将Sb2O3和SnO2粉体混合,烧结作为靶材,所述Sb2O3与SnO2的摩尔量比为1/9~1/4;薄膜的沉积,将所述AZO靶材和ATO靶材装入磁控溅射腔体内,抽真空,设置衬底温度为500℃~800℃,惰性气体流量为15sccm~25sccm,压强为0.2Pa~1.6Pa,AZO靶位和ATO靶位的溅射功率为60W~160W,沉积时间为40min~240min。
申请公布号 CN102465271A 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN201010544036.8 申请日期 2010.11.15
申请人 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司 发明人 周明杰;王平;陈吉星;黄辉
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人 张全文
主权项 一种多元复合透明导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:AZO靶材的制备:将Al2O3和ZnO粉体混合,烧结作为靶材,所述Al2O3与ZnO的摩尔量比为1/120~1/35;ATO靶材的制备:将Sb2O3和SnO2粉体混合,烧结作为靶材,所述Sb2O3与SnO2的摩尔量比为1/9~1/4;薄膜的沉积:将所述AZO靶材和ATO靶材装入磁控溅射腔体内,抽真空,设置衬底温度为500℃~800℃,惰性气体流量为15sccm~25sccm,压强为0.2Pa~1.6Pa,AZO靶位和ATO靶位的溅射功率为60W~160W,沉积时间为40min~240min。
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