真空蒸气处理装置

摘要

本发明提供一种真空蒸气处理装置，其可调节蒸发的金属原子在被处理物上的供给量且结构简单。其配置有：真空容器12，其可保持规定压力；处理容器2以及蒸发容器3，其在该真空容器内隔离设置并彼此连通；加热手段6a、6b，其在把被处理物配置在该处理容器2中的同时，把金属蒸发材料V配置在蒸发容器内，可在该状态下加热处理容器及蒸发容器。并采用以下构成：通过加热手段把处理容器及蒸发容器分别加热，使被处理物升温到规定温度的同时，使金属蒸发材料蒸发，把该蒸发的金属原子提供给处理容器内的被处理物表面。

主权项

一种真空蒸气处理装置，配置有：真空容器，其可保持规定的压力；处理容器以及蒸发容器，其在该真空容器内隔离设置并彼此连通；加热手段，其在把被处理物配置在该处理容器中的同时，把金属蒸发材料配置在蒸发容器内，可在该状态下分别加热处理容器及蒸发容器，并采用以下构成：通过所述加热手段把处理容器及蒸发容器分别加热，在使被处理物升温到规定的温度的同时，使金属蒸发材料蒸发，把该蒸发的金属原子提供给处理容器内的被处理物表面；其特征在于，前述处理容器是第1箱体，其由上面开口的箱部和可在该开口面上灵活装卸的盖部构成；该第1箱体可在真空容器内自由进出，随着真空容器的减压，第1箱体的内部空间可减压到规定的压力。