一种利用负性光刻胶制作底栅型FED下板图形的方法

摘要

本发明涉及场发射显示器利用负性光刻胶制作底栅型FED下板图形的方法，该方法包括以下步骤：1)制备感光银浆；2)在清洁处理后的阴极玻璃基板(4)上用光刻法制作栅极层(5)图形；3)在栅极层(5)上印刷制作绝缘材料图形，并烧结得到阴极电阻层(6)；4)通过光刻法采用感光银浆制作一层阴极层(7)图形；5)填充一层负性光刻胶(p)；干燥后紫外灯下曝光，显影，即得阴极线条间隙填充图形p；6)利用电泳、印刷、光刻方法制作阴极发射体(8)；7)去除光刻胶(p)，即得完整的底栅型FED下基板结构。该方法得到的基板结构使得栅极表面同阴极表面得到彻底绝缘；解决了栅极和阴极表面短路的问题。

主权项

一种利用负性光刻胶制作底栅型FED下板图形的方法，其特征在于，该方法通过以下步骤来实现：1)制备感光银浆；将重量份数的银单体、甲基丙烯酸树脂、光引发剂、2，2，4‑三甲基‑1，3戊二醇单异丁酸酯和高分子分散剂混合研磨均匀；2)在清洁处理后的阴极玻璃基板(4)上，通过光刻法采用步骤1)中感光银浆制作栅极层(5)的图形；3)在制作好的栅极层(5)上，印刷制作一层或多层绝缘层图形，并在530～590℃，烧结20～30min，得到阴极电阻层(6)；4)在上述阴极电阻层(6)上通过光刻法采用感光银浆制作一层阴极层(7)的图形；5)在上述步骤4)完成的基板上填充一层负性光刻胶(p)：采用负性光刻胶填充阴极间隙时，用印刷法直接使用相应图形的漏印版印刷至阴极间隙上后，于90～130℃干燥10～30min；6)制作阴极发射体(8)，即碳纳米管，采用电泳、印刷、光刻方法制作阴极发射体(8)；7)去除光刻胶(p)：填充物为负性光刻胶，直接用0.2～1％的Na2CO3显影液显影10～200s除去；即可得到完整的底栅型FED下基板结构。