| 发明名称 | 层形成设备、成像装置以及层形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种层形成设备，所述层形成设备在能够在刺激作用下硬化的硬化性溶液层的表面上形成吸液颗粒层，使所述吸液颗粒吸收提供至所述硬化性溶液层的表面上的液体颗粒。所述层形成设备能够抑制被提供至硬化性溶液层的表面上的液滴在所述硬化性溶液层的表面上变得模糊。另外，本发明还涉及包含所述层形成设备的成像装置、以及层形成方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102463742A | 申请公布日期 | 2012.05.23 |
| 申请号 | CN201110168114.3 | 申请日期 | 2011.06.17 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 井上洋;池田宏;由井俊毅;上石健太郎 |
| 分类号 | B41J2/01(2006.01)I | 主分类号 | B41J2/01(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 丁业平;张天舒 |
| 主权项 | 一种层形成设备，其在硬化性溶液层的表面上形成吸液颗粒层，从而使所述吸液颗粒吸收被提供至所述硬化性溶液层的表面上的液滴，其中所述硬化性溶液层能够在刺激作用下硬化。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||