发明名称 荧光体、其制造方法及其应用
摘要 本发明涉及荧光体、其制造方法及其应用,所述荧光体的特征在于,所述荧光体含有以下述通式[1]表示的化学组成的结晶相,并且以在波长420nm~480nm的范围内具有峰值的光激发时,由下述式[2]计算出的发光强度的变化率的平均值为1.3以下。式[1]中,Ln表示选自由Y、Gd、Sc、Lu和La组成的组中的至少一种元素,M表示选自由Al、Ga和In组成的组中的至少一种元素,a、b分别为满足0.001≤a≤0.3、0≤b≤0.5的数。式[2]中,I(λ)为激发波长λnm处的荧光体的发光强度,I(λ+1)为激发波长(λ+1)nm处的荧光体的发光强度。(Ln1-a-bCeaTbb)3M5O12    …[1]发光强度的变化率=[(I(λ+1)-I(λ))/I(λ)]2…[2]。
申请公布号 CN101128563B 申请公布日期 2012.05.23
申请号 CN200680006387.5 申请日期 2006.02.23
申请人 三菱化学株式会社 发明人 清水悦雄;吉野正彦;木岛直人
分类号 C09K11/62(2006.01)I;C09K11/08(2006.01)I;C09K11/78(2006.01)I;H01L33/00(2006.01)I;C09K11/80(2006.01)I 主分类号 C09K11/62(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 丁香兰
主权项 一种荧光体,其特征在于,所述荧光体含有以下述通式[1]表示的化学组成的结晶相,并且以在波长420nm~480nm的范围具有峰值的光激发时,由下述式[2]计算出的发光强度的变化率的平均值为1.3以下,所述荧光体的重量平均中值粒径D50为14μm以上且40μm以下(Ln1‑a‑bCeaTbb)3M5O12...[1]其中,Ln表示Y或者表示Y和Lu,M表示选自由Al、Ga和In组成的组中的至少一种元素,a、b分别为满足0.001≤a≤0.3、0≤b≤0.5的数,发光强度的变化率=[(I(λ+1)‑I(λ))/I(λ)]2...[2]其中,I(λ)为激发波长λnm处的荧光体的发光强度,I(λ+1)为激发波长(λ+1)nm处的荧光体的发光强度。
地址 日本东京