| 发明名称 | 防护膜框架以及包括该防护膜框架的防护膜组件 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供硫酸根离子或脱气的产生少、并且具有适度的膜强度和高的耐药品性的防护膜组件。本发明为支持防护膜的外周的防护膜框架，在所述防护膜框架的表面形成有环氧系树脂的涂装膜，在所述环氧系树脂的涂装膜的红外吸收光谱中，在1450～1550cm-1的范围内存在的峰的吸光度相对于在1200～1275cm-1的范围内存在的峰的吸光度的比值为0.5～3，并且在1450～1550cm-1的范围内存在的峰的吸光度相对于在905～930cm-1的范围内存在的峰的吸光度的比值为1以上且小于7。 | ||
| 申请公布号 | CN102472960A | 申请公布日期 | 2012.05.23 |
| 申请号 | CN201080031601.9 | 申请日期 | 2010.07.06 |
| 申请人 | 三井化学株式会社 | 发明人 | 村上修一;河关孝志 |
| 分类号 | G03F1/64(2012.01)I;G03F1/62(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/64(2012.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 钟晶;於毓桢 |
| 主权项 | 一种防护膜框架，其为支持防护膜的外周的防护膜框架，在所述防护膜框架的表面形成有环氧系树脂的涂装膜，在所述环氧系树脂的涂装膜的红外吸收光谱中，在1450～1550cm‑1的范围内存在的峰的吸光度相对于在1200～1275cm‑1的范围内存在的峰的吸光度的比值为0.5～3，并且在1450～1550cm‑1的范围内存在的峰的吸光度相对于在905～930cm‑1的范围内存在的峰的吸光度的比值为1以上且小于7。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||